藍(lán)景 LJ-FT50 反射式膜厚測(cè)量?jī)x解鎖全場(chǎng)景薄膜檢測(cè)

更新時(shí)間：2026-06-24

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藍(lán)景 LJ-FT50 反射式膜厚測(cè)量?jī)x解鎖全場(chǎng)景薄膜檢測(cè)

在半導(dǎo)體、顯示面板、光學(xué)鍍膜、光伏新能源、生物醫(yī)療等制造賽道，薄膜厚度直接決定產(chǎn)品良率、光電性能與使用壽命。傳統(tǒng)檢測(cè)設(shè)備普遍存在量程割裂、超薄膜測(cè)不準(zhǔn)、多層膜解析誤差大、產(chǎn)線檢測(cè)效率低、進(jìn)口設(shè)備成本高昂等行業(yè)痛點(diǎn)。藍(lán)景科技深耕光學(xué)精密檢測(cè)儀器研發(fā)多年，依托自主光學(xué)光路與多層膜擬合算法，推出LJ-FT50 系列反射式膜厚測(cè)量?jī)x，以寬光譜、超高精度、高速檢測(cè)、全場(chǎng)景兼容的硬核實(shí)力，打造國(guó)產(chǎn)化薄膜厚度檢測(cè)一體化解決方案。

一、核心光學(xué)原理：光譜反射干涉無(wú)損測(cè)厚

藍(lán)景反射式膜厚測(cè)量?jī)x以白光光譜干涉法為核心測(cè)量原理，寬譜光源經(jīng)由光纖探頭垂直入射待測(cè)樣品，光線分別在薄膜上表面、薄膜與基底分界面形成兩路反射光束，因光程差產(chǎn)生特征干涉光譜。設(shè)備內(nèi)置高速光譜采集模塊捕捉完整反射光譜，搭配自研 FFT 傅里葉解析與多維度曲線擬合算法，快速反演計(jì)算薄膜厚度、折射率 n、消光系數(shù) k、表面均勻度等關(guān)鍵參數(shù)，全程非接觸、無(wú)耗材、零樣品損傷，軟光刻膠、超薄氧化層、精密光學(xué)鏡片等易劃傷樣品均可安全檢測(cè)。

二、雙機(jī)型靈活選型，覆蓋全厚度區(qū)間

藍(lán)景針對(duì)不同工藝需求打造兩大主力機(jī)型，統(tǒng)一實(shí)現(xiàn) 20nm~50μm 超寬連續(xù)量程，告別多臺(tái)設(shè)備疊加采購(gòu)成本：

LJ-FT50UV 氘鹵全光譜
搭載氘燈 + 鹵素雙光源，光譜完整覆蓋 190–1100nm 深紫外 - 可見(jiàn)光波段，深紫外波段強(qiáng)化 20nm 極限超薄介質(zhì)膜信號(hào)，適配半導(dǎo)體 SiO?、Si?N?柵極層、多層光學(xué)濾光膜、光刻膠疊層等精密場(chǎng)景，可獨(dú)立分層解析 3 層及以上復(fù)合膜系，無(wú)波段測(cè)量盲區(qū)。
LJ-FT50NIR 近紅外基礎(chǔ)款
400–1700nm 鹵素光源，測(cè)量區(qū)間 50nm–50μm，輕量化探頭適配玻璃 AR 鍍膜、光伏 SiN?減反層、手機(jī)蓋板涂層、醫(yī)用防護(hù)膜等常規(guī)厚膜檢測(cè)，性價(jià)比突出，適配中小實(shí)驗(yàn)室與標(biāo)準(zhǔn)化產(chǎn)線質(zhì)控。

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藍(lán)景 LJ-FT50 反射式膜厚測(cè)量?jī)x解鎖全場(chǎng)景薄膜檢測(cè)

藍(lán)景 LJ-FT50 反射式膜厚測(cè)量?jī)x解鎖全場(chǎng)景薄膜檢測(cè)

一、核心光學(xué)原理：光譜反射干涉無(wú)損測(cè)厚

二、雙機(jī)型靈活選型，覆蓋全厚度區(qū)間

一、核心光學(xué)原理：光譜反射干涉無(wú)損測(cè)厚

二、雙機(jī)型靈活選型，覆蓋全厚度區(qū)間